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- 2023-10-01 发布于四川
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1.一种低反射增透膜，其特征在于：具有一侧弧面设计的基板，所述的基板上由内向外依次镀覆设置氟化镁层、二氧化锆层、二氧化钛层、硫化锌层和聚光层。2.根据权利要求1所述的一种低反射增透膜，其特征在于：所述的氟化镁层厚度为0.01～0.05mm。3.根据权利要1所述的一种低反射增透膜，其特征在于：所述的二氧化锆层厚度为0.01～0.05mm。4.根据权利要求1所述的一种低反射增透膜，其特征在于：所述的二氧化钛层厚度为0.01～0.03mm。5.根据权利要求1所述的一种低反射增透膜，其特征在于：所述的硫
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210572831 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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