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本发明公开了一种连续式原子层沉积设备,涉及原子层沉积技术领域。包括底板,所述底板上设置有用于进行原子层沉积的加工组件,所述加工组件上设置有用于遮挡的滑动组件,所述底板上设置有用于对产品位置进行移动的移动组件,所述移动组件上设置有用于取出产品的伸缩组件,所述加工组件上设置有用于对产品进行保护的防护组件。本发明通过加工组件、伸缩组件和移动组件的设置,实现了通过第一固定箱、第二固定箱、电动滑板、伸缩柱、第二齿条、滑动杆和固定条的配合,从而对第一加工后的基体依次转入第二固定箱内部进行再次原子层沉淀加工,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116837350 A
(43)申请公布日 2023.10.03
(21)申请号 202310947589.5
(22)申请日 2023.07.31
(71)申请人 东领科技装备有限公司
地址 21
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