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用于限制溅射源的涂覆区域的挡片组件和溅射装置.pdfVIP

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  • 2023-10-04 发布于四川
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用于限制溅射源的涂覆区域的挡片组件和溅射装置.pdf

    本发明涉及一种用于限制对于层沉积起作用的涂覆区域的孔径挡片的挡片组件，以及涉及一种使用所述挡片组件的溅射装置。所述挡片组件包括基体(13)，所述基体具有由通孔棱边限制的通孔(14)。为了能够在时间上和几何形状上在原地可变地设计挡片开口，所述挡片组件具有至少一个挡片板(17、17、17”)，所述至少一个挡片板在所述通孔(14)之前且向后可移动地安装在所述基体(13)上。所述挡片组件此外包括移动装置，所述移动装置与所述挡片板(17、17、17”)处于作用连接之中，以便实施所述挡片板的移动。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116848287 A (43)申请公布日 2023.10.03 (21)申请号 202180081809.X 马库斯 ·克雷斯　马可 ·塞贝尔　

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