量测方法和系统以及光刻系统.pdfVIP

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  • 2023-10-04 发布于四川
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披露了一种用于从目标测量所关注的参数的方法和相关联的设备。所述方法包括获得与所述目标的测量相关的测量采集数据和能够操作以校正所述测量采集数据中的至少有限尺寸效应的有限尺寸效应校正数据和/或经训练的模型。所述测量采集数据中的至少有限尺寸效应是使用所述有限尺寸效应校正数据和/或经训练的模型而被校正的以获得经校正的测量数据和/或所关注的参数;其中所述校正步骤并不直接地确定所关注的参数,而是从所述经校正的测量数据确定所关注的参数。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116848469 A (43)申请公布日 2023.10.03 (21)申请号 202180090953.X 古德恩 

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