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本发明涉及光刻工艺领域,特别是涉及一种掩模板清洗设备及方法,包括基台、固定组件、清洗组件及移动组件;待清洗掩模板放置于所述基台上,并被所述固定组件固定;所述移动组件用于控制所述清洗组件在所述基台上方移动;所述清洗组件包括清洗杯体、输液管及环形气嘴;所述清洗杯体为底部存在孔洞的杯体;所述环形气嘴朝向所述基台,且将所述孔洞包围,所述环形气嘴喷气能在所述清洗组件与所述基台之间形成气墙;所述清洗杯体、所述气墙、及所述待清洗掩模板组成洗涤腔室;所述输液管向所述洗涤腔室内注入清洁液。本发明中的清洗组件通过控
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116841119 A
(43)申请公布日 2023.10.03
(21)申请号 202310826902.X
(22)申请日 2023.07.06
(71)申请人 上海集成电路装备材料产业创新中
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