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纳米有序周期结构的制备与表征的中期报告 纳米有序周期结构（Nanostructured Periodic Structures，NPS）是指具有nanometer级别的周期性结构的材料。这种结构在制备的过程中需要精密的加工技术，例如物理气相沉积、分子束外延、自组装等。制备NPS材料需要掌握诸多加工技术，如制备前期的底材处理、界面控制与设计，以及加工中的纳米制备技术等。 本次中期报告主要介绍了NPS材料的制备和表征，具体内容如下。 一、NPS材料的制备 1. 物理气相沉积法（Physical Vapor Deposition，PVD） PVD技术用于制备NPS结构主要有两种方法，分别是光刻法和可控再结晶法。光刻法是将精密的光刻模板放在底板上，然后用物理气相沉积的方法在模板上生长纳米结构，最后脱模形成期望的周期结构。可控再结晶法则是通过物理气相沉积法在底板上制备出粗糙的纳米结构，然后通过再结晶使其重新排列成为周期性结构。 2. 分子束外延法（Molecular Beam Epitaxy，MBE） MBE技术是一种重要的材料制备技术，这种方法的特点是可以通过分子束外延，控制半导体薄膜的厚度和成分。制备NPS结构的方法通常是用MBE方法在底板上生长纳米粒子，在沉积完成后，采用自组织或重蚀等方法来形成纳米阵列结构。 二、NPS材料的表征 1. 扫描电子显微镜（SEM） SEM技术可以对样品表