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一种Com Metal当机造成后制程膜剥的改善方法.pdfVIP

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  • 2023-10-11 发布于四川
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一种Com Metal当机造成后制程膜剥的改善方法.pdf

    本发明公开了一种ComMetal当机造成后制程膜剥的改善方法，涉及显示生产技术领域，所述方法包括：ComMetal拔膜，用于将当机导致的异常CM膜层拔除；Organic清洗，用于将有机光阻表面清洗干净；烘烤Organic层，使其吸收的水份充分蒸发；Organic层烘烤后清洗，将表面异物清洗干净；形成ComMetal膜层；图案化形成ComMetal光阻；通过显影进行ComMetal线路蚀刻；去除ComMetal光阻，完成重工流程。本发明提供的一种ComMetal当机造成后制程膜剥的改善方法通过将

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116859674 A (43)申请公布日 2023.10.10 (21)申请号 202310681662.9 (22)申请日 2023.06.09 (71)申请人 福建华佳彩有限公司 地址 351

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