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一种耐高温双用途晶控仪.pdfVIP

一种耐高温双用途晶控仪.pdf

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    本实用新型公开了一种耐高温双用途晶控仪，包括于真空室内与衬底支架相连的石英片载台、置于真空室内与石英片载台连接的射频接线座和置于真空室外的晶控主机，所述石英片载台包括相对的上载台和下载台，分别用于放置一片石英晶片，所述上载台石英晶片其中一面以适当面积正对镀膜方向裸露，所述下载台石英晶片置于镀膜方向的反方向，且只通过少量通气孔暴露于外面，使其在镀膜时不会被沉积上薄膜，所述上载台和所述下载台之间良好导热。本装置可在高温镀膜环境下应用，无需水冷装置，一方面消除了镀膜阴影，降低了漏气漏水概率，另一方面也

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210657121 U (45)授权公告日 2020.06.02 (21)申请号 20192

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