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本实用新型公开了一种用于同时测量超构材料光芯片反射、透射和吸收光谱的装置，其特征在于包括：宽谱白光光源、第一光纤准直镜、第二光纤准直镜、液体流通池、双路光开关、多模光纤跳线、光纤光谱仪和电脑。本申请装置通过双路光开关分别来搭建超构材料光芯片的反射光路和透射光路，在仅仅使用单个光源和单个光谱仪的情况下，通过双路光开关交替切换实现超构材料光芯片反射光谱和透射光谱的同时测量，再通过利用连续测量得到一次反射和一次透射结果计算得到吸收光谱。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210665487 U
(45)授权公告日
2020.06.02
(21)申请号 20192
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