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本发明公开了一种带自动上下料的双工位研磨抛光机，涉及到研磨抛光机领域，包括底座、两个研磨工位、机械手一及机械手二，两个研磨工位均设置在底座上并左右对称分布，底座的上端前侧固定设置有竖直设置的支架，机械手一和机械手二均可横向滑动安装在支架上，且机械手一和机械手二均可竖直移动，且机械手一和机械手二分别与两个研磨工位对齐，底座的上端还设有放置架，放置架位于两个研磨工位之间，放置架的前侧下方固定设置有放置平台，放置架的前侧还通过升降机构安装有翻面平台。本发明通过在单机内通过内部翻面结构实现无法双面同时加
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116872041 A
(43)申请公布日 2023.10.13
(21)申请号 202310767293.5 B24B 7/24 (2006.01)
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