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本发明公开了一种基于低质去噪和多级上采样的点云补全方法，该方法首先设计、搭建并训练了自编码器模块、邻域自适应去噪模块和多级上采样模块。在补全过程中，残缺点云首先通过自编码器模块生成稀疏的粗糙完整点云，该点云只有全局形状，缺乏精细的几何细节。紧接着通过邻域自适应模块对稀疏的粗糙完整点云进行去噪，祛除了大部分噪声点，使得几何结构更清晰。最后，将去噪的点云输入到多级上采样模块得到密集完整点云。与现有的技术相比，本发明的点云补全方法能在保留残缺点云几何结构的同时，生成具有精细几何细节的密集完整点云，且在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116883266 A
(43)申请公布日 2023.10.13
(21)申请号 202310689931.6 G06N 3/0464 (2023.01)
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