一种晶圆光刻设备.pdfVIP

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2023-10-18 发布于四川
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本实用新型涉及晶圆光刻技术领域，具体为一种晶圆光刻设备，包括工作箱，所述工作箱内置工作空腔，所述工作空腔底端设置定位座，所述定位座顶端设置定位装置，所述工作空腔顶端设置光刻机，所述定位装置包括蜗轮、蜗杆、定位柱以及定位块，所述定位座内置定位空腔，所述定位空腔顶端设置多组定位通孔，所述定位空腔底端与定位通孔对应位置设置定位槽，所述定位槽与定位通孔之间设置定位柱，所述定位柱分别与定位槽槽底以及定位通孔侧壁滑动连接，通过定位装置的设置，便于通过定位块的移动对晶圆进行夹持定位，从而使得晶圆与光刻机进行对

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219842630 U (45)授权公告日 2023.10.17 (21)申请号 202321094699.3 (22)申请日 2023.05.09 (73)专利权人厦门吉顺芯微电子有限公司地址