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本实用新型涉及等离子蚀刻领域,公开了一种等离子清洗模块,包括两个气排组件及至少两个电极板,多个电极板沿一方向依次间隔布置,相邻的两块电极板之间均具有间隙,两气排组件用于向间隙内相对地喷射待离化气体,相邻两个电极板在通电时产生交变电场,所述间隙内设置有与交变电场相交的磁场,在交变电场和磁场的共同作用下,电子由往复运动变为螺旋回转运动,从而增大了电子的行程,进而增大了电子与中性粒子的碰撞频率,因此增大了活性粒子的密度,提高活性粒子往深孔扩散的动力,增强了活性粒子的迁移能力,而且增强了等离子体中反应物
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219843790 U
(45)授权公告日 2023.10.17
(21)申请号 202320849404.2
(22)申请日 2023.04.14
(73)专利权人 广东鼎泰机器人科技有限公司
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