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一种化学机械抛光装置和化学机械抛光方法.pdf

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    本发明公开了一种化学机械抛光装置，其包括：抛光盘，用于设置抛光垫；承载头，其带动基板在抛光垫上方移动；修整组件，其包括固定座、摆臂和修整器，所述修整器设置于摆臂的端部并绕固定座摆动，以修整抛光垫表面；所述摆臂带动修整器往复摆动，修整器相邻扫掠动作对应的切入点不同。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116900928 A (43)申请公布日 2023.10.20 (21)申请号 202311045665.X (22)申请日 2023.08.18 (71)申请人 华海清科股份有限公司 地址 30

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