使用同时存在的原位和远程等离子体源进行快速室清洁.pdfVIP

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2023-10-25 发布于四川
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使用同时存在的原位和远程等离子体源进行快速室清洁.pdf

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本发明涉及使用同时存在的原位和远程等离子体源进行快速室清洁。一种用于清洁衬底处理系统的处理室的方法包括：向远程等离子体源(RPS)供应三氟化氮(NF3)气体；使用所述RPS产生RPS等离子体；向所述处理室供应所述RPS等离子体；将NF3气体作为旁路气体供应至所述处理室；在供应所述RPS等离子体的同时在所述处理室中激励原位等离子体；并且在清洁时间段期间使用所述RPS等离子体和所述原位等离子体两者清洁所述处理室。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116936327 A (43)申请公布日 2023.10.24 (21)申请号 202310634696.2 (22)申请日 2018.04.23 (30)优先权数据