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本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法，其包括：处理液供给工序，向衬底的表面供给具有溶质及溶剂的处理液；处理膜形成工序，使已被供给至前述衬底的表面的前述处理液固化或硬化，在前述衬底的表面形成保持存在于前述衬底表面的去除对象物的处理膜；和剥离工序，向前述衬底的表面供给剥离液，将前述处理膜与前述去除对象物一同从前述衬底的表面剥离，前述剥离工序包括：贯通孔形成工序，使前述处理膜部分地溶解于前述剥离液而在前述处理膜上形成贯通孔。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116936413 A
(43)申请公布日 2023.10.24
(21)申请号 202310952518.4 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所
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