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- 2023-10-25 发布于四川
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再利用玻璃衬底。提高半导体装置的量产性。本发明的一个方式是其一个表面具有第一材料及第二材料的玻璃衬底。第一材料具有金属和金属氧化物中的一个或两个。第二材料具有树脂和树脂分解物中的一个或两个。此外，本发明的一个方式是玻璃衬底的清洗方法，该清洗方法包括准备其一个表面具有第一材料及第二材料的玻璃衬底的步骤及去除第二材料的至少一部分以暴露第一材料的步骤。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 109690734 A
(43)申请公布日
2019.04.26
(21)申请号 20178
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