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本发明提供一种光场匀化荧光陶瓷及其制备方法与应用。所述光场匀化荧光陶瓷中包括细晶折射/散射颗粒,所述细晶折射/散射颗粒的粒径小于500纳米。本发明提供的光场匀化荧光陶瓷,在荧光陶瓷内部分布有细晶折射/散射单元,利用该细晶折射/散射单元对激发光源的入射光进行折射和散射作用,从而使得入射光经过反复多重的折射和散射,进而增强了光场的匀化效果与发光效率。进一步,所述的细晶折射/散射单元的大小与激发光源入射光波长大小相当,从而进一步提升了细晶折射/散射单元针对入射光的折射和散射效果,更进一步提升了光场匀化
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116947476 A
(43)申请公布日 2023.10.27
(21)申请号 202310879372.5 F21V 9/30 (2018.01)
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