一种离子注入机能量污染的监控方法.pdfVIP

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2023-11-04 发布于四川
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一种离子注入机能量污染的监控方法.pdf

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本发明提供一种离子注入机能量污染的监控方法，对晶圆进行低能量离子注入；使用激光退火工艺对晶圆进行表面离子激活；量测晶圆的方块电阻值RS1；对晶圆进行快速高温退火；量测晶圆的方块电阻值RS2；提供晶圆的标准方块电阻值，将方块电阻值RS1和方块电阻值RS2分别与标准方块电阻值进行比较；若方块电阻值RS1与标准方块电阻值的偏差大于5％，而方块电阻值RS2与标准方块电阻值的偏差小于5％，则离子注入机存在能量污染。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116994975 A (43)申请公布日 2023.11.03 (21)申请号 202310934629.2 (22)申请日 2023.07.27 (71)申请人上海华力集成电路制造有限公司地址