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一种用于尾矿浆X荧光薄层分析的散射校正方法.pdfVIP

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  • 2023-11-04 发布于四川
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一种用于尾矿浆X荧光薄层分析的散射校正方法.pdf

    本发明公开了一种用于尾矿浆X荧光薄层分析的散射校正方法：将与尾矿成分相近的标准物质分别沉积在不同厚度的滤膜上形成薄层作为校正样品，利用偏振X荧光光谱仪器测量获得各校正样品中感兴趣元素的X荧光强度和来自标准物质本身以及滤膜共同引起的总康普顿散射峰强度，随后将各校正样品的滤膜厚度值与总康普顿散射峰强度进行线性拟合，得到滤膜厚度与康普顿散射峰强度的关系，进而得出校正样品在无滤膜时的净康普顿散射峰强度。本发明降低了X荧光光谱法检测尾矿浆时样品基体效应的影响及样品真实康普顿散射峰强度不易获得的问题；有效提

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114113184 A (43)申请公布日 2022.03.01 (21)申请号 202111431377.9 (22)申请日 2021.11.29 (71)申请人 南京航空航天大学 地址

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