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本实用新型提供一种半导体生产用温控设备,涉及半导体生产设备技术领域,包括支撑柱主体和温控机构,所述支撑柱主体的下端焊接有底板,所述底板的上端焊接有中心柱,所述支撑柱主体的上方设置有温控机构,所述支撑柱主体的上端焊接有箱体,所述箱体的一侧焊接有滑轨。该半导体生产用温控设备,通过温控机构的设置,隔热层可以维持设备内部的恒定温度和压力,当箱体中的温度过低时,控制器会启动电机,并对电阻加热板进行通电,扇叶可以使热量扩散的更快,使温度上升的更快,当箱体内部温度过高时,控制器会启动抽水泵使冷却剂从回流箱流入
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219958111 U
(45)授权公告日 2023.11.03
(21)申请号 202321380718.9
(22)申请日 2023.06.01
(73)专利权人 重庆孰诺知识产权服务中心
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