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- 2023-11-08 发布于四川
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本发明公开了一种硅片旋转装置、清洗结构及清洗机,属于半导体技术领域,硅片旋转装置包括立板,立板的前侧面的底端设有清洗台;清洗台上纵向设有两清洗篮支架;各清洗篮支架中部纵向设有转动轴;各转动轴的后端同轴安装有转动轴齿轮;立板顶端安装有清洗驱动电机;清洗驱动电机的输出轴前端安装有主动齿轮;主动齿轮通过若干传动齿轮与两转动轴齿轮相连;各转动轴上同轴设有长条状的辊子,辊子的径向外周表面至少一组相对侧面上各设有若干平行于转动轴中轴线的长凹槽或长凸棱。清洗结构包括硅片旋转装置、升降装置;清洗机包括机架硅片旋
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117000659 A
(43)申请公布日 2023.11.07
(21)申请号 202311124899.3
(22)申请日 2023.09.02
(71)申请人 山东联盛电子设备有限公司
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