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无氰化学镀金体系络合剂的研究 摘要 化学镀镍/置换镀金(ENIG)是电路板表面处理重要工艺之一,目的是为铜层提供保护的金属层,传统的化学镀金体系使用氰化物作为金盐,镀速快,镀液稳定,镀层外观良好,但是氰化物对人体和环境有害,无氰体系应运而生。无氰镀金体系最关键之处在于络合剂的选择,大多数络合剂构成的无氰镀金液稳定性不足、镀层外观发黑发白,难以得到广泛应用,因此络合剂的选择成为各研究机构研究重点之一。 本文针对化学镀金体系镀液不稳定的问题,选择Na3Au(SO3)2作为主盐,试验多种络合剂在弱酸性、中性和弱碱性的作用效果,运用量子化学计算的方法在分子水平对作用效果进行说明和探

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