底盘、基站和清洁系统.pdfVIP

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  • 2023-11-11 发布于四川
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本实用新型公开了一种底盘、基站和清洁系统。本实用新型实施方式的底盘用于清洁机器人的基站,底盘设有清洗槽和与清洗槽连通的排水口,清洗槽的底面包括接水处,清洗槽的底面高度自接水处向排水口降低。在本实用新型实施方式的底盘中,清洗槽的底面高度自接水处向排水口降低,使得水流在重力作用下流向排水口,并清洗清洗槽的底面,无需人工对清洗槽的底面进行再次清洁,方便基站的使用。

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219982804 U (45)授权公告日 2023.11.10 (21)申请号 202321031167.5 (22)申请日 2023.05.04 (73)专利权人 美智纵横科技有限责任公司 地址

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