原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供一种提高透光率的光反应材料层及其制备方法，该光反应材料层包括依次叠置的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层，第二薄膜层的折射率大于第一薄膜层及第三薄膜层的折射率，利用光从光密到光疏介质发生的全反射作用，使光线在在交界面发生全反射，能够使光线更多地在第二薄膜层发生不断的往复反射，提高光源的利用率，使光源更容易进入第一薄膜层，降低光线能量衰减，提高透光率，提高单位体积内入射光源的强度及均匀度，提高整个改性后的光反应层的均匀性。该光反应材料层能够应用于氮化硅材料层的改性，使其材料中的氢析出，形
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117038707 A
(43)申请公布日 2023.11.10
(21)申请号 202311167953.2
(22)申请日 2023.09.11
(71)申请人 上海积塔半导体有限公司
地址 2
文档评论（0）