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提供一种处理来自电路板和/或基板制造的蚀刻废弃物介质的方法，该方法包括：i)提供所述蚀刻废弃物介质作为待处理介质(11)，特别是来自蚀刻处理(150)的待处理介质(11)，该待处理介质(11)包括待处理金属盐和酸(15)；ii)在离子交换处理(145)中处理所述待处理介质(11)，使所述待处理金属盐被金属盐交换，并且含金属盐的介质(10)从所述待处理介质(11)获得；因此a)使第一处理循环(170)流过所述离子交换处理(145)，其中所述第一处理循环(170)是实质上仅产出元素金属(50)的第一
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117043395 A
(43)申请公布日 2023.11.10
(21)申请号 202280017930.0 海因茨 ·莫伊齐
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