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本发明提供了一种用于转接板的基底结构以及转接板的制造方法,在基板的背面形成保护层,在对所述基板执行热氧化工艺以在导通孔中形成氧化层的过程中,通过所述保护层阻挡所述基板的背面的氧化,也即阻挡所述基板的背面的氧化层的形成。由此,在对所述基板执行热氧化工艺以在导通孔中形成氧化层的过程中,可以极大地减缓所述基板的背面的氧化层的形成,从而减小了所述基板的背面的氧化层的厚度,避免了静电卡盘吸附不佳的问题,降低了掉片风险,提高了转接板制程的可靠性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117038639 A
(43)申请公布日 2023.11.10
(21)申请号 202311007457.0
(22)申请日 2023.08.09
(71)申请人 武汉新芯集成电路制造有限公司
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