半导体蚀刻高精喷盘装置.pdfVIP

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2023-11-15 发布于四川
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半导体蚀刻高精喷盘装置.pdf

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本发明公开了一种半导体蚀刻高精喷盘装置，过滤网床设于喷盘机构的底端，喷盘机构的一侧连接有前窗，喷盘机构的另一侧设有后窗，摇摆电机通过摇摆轴与喷盘机构相连接，相同型号参数的第一分流管、第二分流管分别连接于喷盘机构的上下两端。本发明用于集成线路半导体组件集成芯片，其采用的结构组件简单可靠，通过不同喷头的交替布局，能够实现对亚微米级线路的高精度蚀刻；而且，上下喷盘上下交错离心摇摆，使得锥形喷头和扇形喷头交错布局，有效缩短药液交换时间，实时保证新鲜蚀刻液与蚀刻层快速反应，显著提高蚀刻效果。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117059522 A (43)申请公布日 2023.11.14 (21)申请号 202311015319.7 (22)申请日 2023.08.10 (71)申请人深圳市诚胜捷自动化设备有限公司地