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本申请实施例提供一种刻蚀终点监测方法及装置，方法包括：通过获取光谱仪在刻蚀过程中采集的光谱数据，并对所述光谱数据进行滤波处理；对滤波后的所述光谱数据进行数据降维，得到所述光谱数据的至少一个特征波段；对所述光谱数据的至少一个特征波段进行数值分析，确定所述光谱数据的数据模型；通过所述光谱数据的数据模型对实时采集到的光谱数据进行刻蚀状态监测，并根据监测结果控制刻蚀进程；本申请能够有效降低刻蚀过程中的数据维度，减少数据冗余，降低了干扰信号对于等离子体刻蚀结果的误判率，大幅提升了等离子体刻蚀工艺状态监控模
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117080103 A
(43)申请公布日 2023.11.17
(21)申请号 202310942856.X
(22)申请日 2023.07.28
(71)申请人 北京航空航天大学
地址 1001
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