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本公开提供一种外延生长装置及预热环与基座相对位置校正方法,装置包括:反应腔室,侧壁上设通孔;基座,绕垂直承载面方向的中心轴可转动;预热环,活动安装至反应腔室内且位于基座的径向外侧,预热环与基座之间具有间隙,预热环的周向外侧面上在第一水平方向上间隔分布有若干调整点位;可操作构件,可经由通孔从反应腔室外侧伸入至反应腔室内侧,第二端被构造为可供操作,第一端能够与任一调整点位之间配合连接或分离,可操作构件与调整点位配合的情况下能够相对基座移动预热环。本公开提供的外延生长装置及预热环与基座相对位置校正方法
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117071060 A
(43)申请公布日 2023.11.17
(21)申请号 202311118721.8 C23C 16/458 (2006.01)
(22)申请日 2023.08
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