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本实用新型涉及半导体技术领域，公开一种激光干涉仪测量设备。其中激光干涉仪测量设备包括真空室、待测量组件、干涉仪模块和激光器模块。真空室设置有真空腔；待测量组件设置于真空腔内，待测量组件包括反射镜和待测量物体，反射镜安装于待测量物体的侧壁；激光器模块与干涉仪模块连接，激光器模块用于向干涉仪模块发射光束；干涉仪模块设置于真空腔内，干涉仪模块对应反射镜设置，干涉仪模块用于测量反射镜的位移。本实用新型中，真空腔可以保持一定真空度，为干涉仪模块提供良好的工作环境，可以大大优化环境颗粒、气流抖动和空气折射率
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 220039374 U
(45)授权公告日 2023.11.17
(21)申请号 202321598287.3
(22)申请日 2023.06.21
(73)专利权人 上海隐冠半导体技术有限公司
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