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镀膜装置及镀膜方法.pdfVIP

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  • 2023-11-22 发布于四川
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镀膜装置及镀膜方法.pdf

    本公开涉及一种镀膜装置及镀膜方法，其中，镀膜装置包括：真空室(1)，其腔体内为真空环境；偏压负载体(2)，设在所述真空室(1)内，所述偏压负载体(2)与所述真空室(1)相互绝缘；位置保持部件(3)，被配置为将工件的位置保持在所述真空室(1)和所述偏压负载体(2)之间；离子产生部件(4)，设在所述真空室(1)的侧壁上，被配置为产生并向所述真空室(1)内输入带电离子；和偏压电源(5)，所述偏压电源(5)的正极和负极分别连接于所述真空室(1)和所述偏压负载体(2)。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117089806 A (43)申请公布日 2023.11.21 (21)申请号 202311065307.5 C23C 16/02 (2006.01)

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