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- 2023-11-22 发布于四川
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本申请提供一种红外发光二极管的外延片及其制备方法,红外发光二极管的外延片包括依次层叠的:掺Si的GaAs衬底、n型GaAs缓冲层、n型电流扩展层、n型限制层、有源区、插入层、电子阻挡层、p型限制层、p型电流扩展层、p型欧姆接触层;有源区依次包括:第一有源区、有源区插入层、第二有源区;第一有源区为InGaAs阱层和AlGaAs垒层;有源区插入层为包括第一位错阻挡层InGaP/AlxGa(1‑x)As组分突变层及AlxGa(1‑x)As缓冲层,其中x<0.12;第二有源区周期数、结构与第一有源区相同
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117096235 A
(43)申请公布日 2023.11.21
(21)申请号 202311121596.6 H01L 33/02 (2010.01)
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