显示装置的制造方法及CVD装置.pdfVIP

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  • 2023-11-29 发布于四川
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本发明涉及显示装置的制造方法及CVD装置。根据一实施方式,显示装置的制造方法中:准备处理基板,在下电极上形成有机层,形成位于有机层上并与隔壁相接的上电极,在上电极上形成盖层,形成位于盖层上并与隔壁相接的密封层,其中,形成密封层的工序包括:沉积工序,其在将形成有盖层的处理基板搬入腔室的内部后,将原料气体导入腔室内而在处理基板之上沉积硅氮化物,然后停止原料气体的导入,对腔室内的残留气体进行排气;和蚀刻工序,其接着沉积工序,将清洁气体通过与原料气体相同的路径导入腔室内,在进行了将沉积在处理基板上的硅氮

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117135981 A (43)申请公布日 2023.11.28 (21)申请号 202310600130.8 C23C 16/455 (2006.01)

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