气膜孔抛光去毛刺的装置及方法.pdfVIP

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  • 2023-11-29 发布于四川
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本发明公开一种气膜孔抛光去毛刺的装置,结构新颖合理,通过设置辅助加热系统在抛光前或抛光中对待加工件加热,可促进待抛光气膜孔表面气膜的快速生成,进而有效提高抛光效率,解决了现有气膜孔抛光技术抛光效率低,加工成本高的问题,可被广泛应用于各类场合下的零件抛光。本发明提出一种气膜孔抛光去毛刺的方法,在电解质等离子抛光技术的基础上,通过在抛光前或抛光中对待加工件加热,可促进待抛光气膜孔表面气膜的快速生成,进而有效提高抛光效率,解决了现有气膜孔抛光技术抛光效率低,加工成本高的问题,可被广泛应用于各类场合下的

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117124222 A (43)申请公布日 2023.11.28 (21)申请号 202311091321.2 B24B 47/22 (2006.01) (22)申请日 2023.08.

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