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本实用新型涉及硅片清洗领域，具体涉及一种具有上顶滑动门结构的清洗设备。本实用新型提供了一种具有上顶滑动门结构的清洗设备，包括：若干清洗单元，所述清洗单元顶部设置有滑动限位机构，以形成滑动空间；所述清洗单元一侧设置有上滑门，所述上滑门一端与所述滑动限位机构抵接；其中所述上滑门打开时，所述上滑门绕远离所述滑动限位机构转动至与所述滑动空间平行，所述上滑门沿所述滑动空间长度方向滑动至插入所述滑动空间内。通过将现有技术中左右移门设计优化至顶部，工人在操作时不会再有身位影响，提高工作效率。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 220121789 U
(45)授权公告日 2023.12.01
(21)申请号 202321554196.X
(22)申请日 2023.06.19
(73)专利权人 常州捷佳创精密机械有限公司
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