磁流变抛光装置设计.docxVIP

长春工业大学毕业设计、毕业论文 - PAGE I- - PAGE IV- 磁流变抛光装置设计 摘要 伴随着5G电子行业迅猛发展，光电技术、电子信息技术及半导体应用技术的应用越来越广泛,对超光滑平面元件需求量越来越大，并且对元件的表面质量和加工精度要求愈来愈严格。传统机械抛光技术难以同时满足损伤、效率及成本等多方面的要求,无法保证元件加工后达到预定的加工精度及加工质量标准，所以，需要在新型抛光技术上得到进展，要求所加工表面能够达到纳米级粗糙度。 磁流变抛光技术是一种新类型的光学处理技术，其优点在于相比于传统的抛光方法可以加工出超光滑表面。由于磁性抛光头和工件表面之间的磁性流动液体的流动性能发生变