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本发明提供一种真空高速率沉积旋转圆柱电弧镀膜源系统，包括旋转圆柱靶装置，引弧装置，可活动遮罩装置，主体与电控装置和匀气装置；旋转圆柱靶装置包括处于中间的磁轴和靶材；磁轴包括固定轴、固定压紧块、调节螺母座、固定螺杆、导磁板、磁棒、连接轴套、支撑块、转动连接头一、转动连接头二和导磁遮罩；引弧装置包括钨极、连接块、加长杆、主轴、防镀遮罩、压板、筒座、绝缘垫、导向轴、弹簧压块、绝缘压块、气缸、气缸固定座和接线端头；可活动遮罩装置包括固定遮罩、右侧活动遮罩、左侧活动遮罩、无油衬套；该设计优化镀膜源系统结构
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117144312 A
(43)申请公布日 2023.12.01
(21)申请号 202311009782.0
(22)申请日 2023.08.11
(71)申请人 福建金石能源有限公司
地址 36
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