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本发明属于半导体加工技术领域,公开了一种晶圆修边厚度控制方法及晶圆修边设备。该晶圆修边厚度控制方法包括:S1、测量旋转平台的高度作为基准高度h0;S2、将晶圆放置在旋转平台上,测量晶圆上表面的边缘的n个测点的高度;S3、计算每个测点处的一次差值;S4、计算每相邻两个测点之间弧段的平均厚度;S5、使用刀轮切削弧段S1的边缘;S6、根据二次差值ΔT1‑2沿Z轴调整刀轮的预设进刀量A,并切削弧段S2的边缘;S7、采用同样的方法分别调整刀轮在切削剩余弧段边缘时的预设进刀量A,并依次切削剩余弧段的边缘。该
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117140339 A
(43)申请公布日 2023.12.01
(21)申请号 202311080233.2 B24B 9/02 (2006.01)
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