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本发明公开了一种硅纳米柱掩膜的制备方法及其应用方法,属于纳米材料技术领域;将聚苯乙烯微球溶液与无水乙醇混合配置成聚苯乙烯微球悬浊液;之后将聚苯乙烯微球悬浊液单层平铺在水面上;再滴加十二烷基硫酸钠溶液形成聚苯乙烯胶体球膜;在硅基底上固定环氧树脂有机滤膜;采用提拉法将聚苯乙烯胶体球膜捞出干燥制得纳米柱掩膜;利用刻蚀气体对聚苯乙烯微球的刻蚀速率远低于对硅的刻蚀速率原理,将热处理之后的聚苯乙烯微球作为掩膜版来保护其下面的硅,从而形成硅纳米柱阵列结构;在掌握单层聚苯乙烯(PS)小球平铺技术的基础上,结合有
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117185250A
(43)申请公布日2023.12.08
(21)申请号202311130719.2
(22)申请日2023.09.04
(71)申请人内蒙古科技大学
地址01401
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