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一种光刻缺陷快速检测与定位方法及装置.pdfVIP

一种光刻缺陷快速检测与定位方法及装置.pdf

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    本发明提供了一种光刻缺陷快速检测与定位方法及装置，属于光学检测领域，该方法具体为：确定照明探针的照射位置并获取待测光刻样品的实际远场衍射光强，将其与参考远场衍射光强进行灵敏度响应分析以判断该照射位置是否存在缺陷，若存在缺陷，则将实际远场衍射光强与参考远场衍射光强进行差分处理以获得该照射位置的衍射差分光强，然后对其进行光场逆传播处理以获得一对孪生像；更新照明探针的照射位置并重复上述步骤直至照明探针的照射位置覆盖待测光刻样品的所有扫描点，然后根据获得的若干对孪生像确定缺陷的大小、数量、位置信息中的一

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117192891A

    (43)申请公布日2023.12.08

    (21)申请号202311146602.3

    (22)申请日2023.09.05

    (71)申请人华中科技大学

    地址430074

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