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2023-12-09 发布于四川
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一种用于SIC衬底用氧化铝CMP抛光液及其制备方法.pdf

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本发明涉及一种用于SIC衬底用氧化铝CMP抛光液及其制备方法，所述抛光液包括以下重量份的原料：8—10份氧化铝粉末，8—10份悬浮剂，8.5—10份分散剂，4—5份pH值调节剂，5—6份氧化剂，4—5份消泡剂，75—80份去离子水；所述分散剂是脂肪醇醚磷酸酯、脂肪醇醚磷酸酯钾盐、异十三醇磷酸酯、聚乙二醇硬脂酸酯、聚乙二醇月硅酸酯和聚乙二醇油酸酯的一种或几种的混合物。本发明不仅够实现氧化铝微粉的充分分散与稳定悬浮，不存在任何团聚现象，从而避免研磨过程中产生异常划伤，影响抛光质量，而且采用碱性的抛光

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117186776A

(43)申请公布日2023.12.08

(21)申请号202311024045.8

(22)申请日2023.08.15

(71)申请人湖北金伟新材料有限公司

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