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本发明的实施例公开了一种芯片的分离方法,包括:将临时衬底临时键合到晶圆的第一面;减薄晶圆的第二面至预设厚度,其中,第一面和第二面彼此背离;在第二面的第一区域上形成金属层,其中,第一区域为芯片功能区域在第二面上的投影区域;对第二面进行刻蚀,在第二区域上形成贯穿晶圆的深硅槽,其中,第二区域为芯片非功能区域在第二面上的投影区域;将切割膜结合到晶圆的第二面上;移除临时衬底,将晶圆上的芯片沿深硅槽彼此分离。根据本发明,对晶圆第一面进行临时键合形成对减薄后的晶圆的支撑,进而可以在晶圆第二面上刻蚀贯穿晶圆的深
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117219580A
(43)申请公布日2023.12.12
(21)申请号202311213818.7
(22)申请日2023.09.20
(71)申请人苏州园芯微电子技术有限公司
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