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本发明属于OC光刻胶技术领域，涉及一种具有良好亲水性能的负性高折射率OC光刻胶、光固化图案的制备方法及应用。该光刻胶包括如下重量份的原料：无机纳米粒子10～30份；光聚合性单体5～15份；光聚合引发剂0.1～5份；添加剂0～0.5份；溶剂50～100份。通过光聚合性单体的选择，在保证分辨率的情况下，解决了显影过程中的Mura问题；通过在负性高折射率OC光刻胶中引入强极性官能团，与水和极性氮化硅衬底之间形成强偶极相互作用，增强了高折射率OC光刻胶的亲水性，并且在不使用硅烷偶联剂等提高附着力的助剂的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117215151A
(43)申请公布日2023.12.12
(21)申请号202311090239.8
(22)申请日2023.08.28
(71)申请人西安思摩威新材料有限公司
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