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本发明提供一种清洁装置及清洁方法。其中，所述清洁装置包括第一清洁模块和第二清洁模块；所述第一清洁模块用于采用湿法清洗工艺清洁半导体器件；所述第二清洁模块包括静电放电单元，用于产生静电放电并电离气体介质形成冲击波，以经所述冲击波清洁所述半导体器件。相较于现有技术，本发明提供的所述清洁装置采用湿法清洗和电离冲击波清洗相结合的清洁方式，以利用湿法清去除大粒径污染物，利用电离冲击波去除小粒径污染物，有效提高清洁效率和清洁效果。且相较于激光形成冲击波的清洁方式，本发明采用的静电放电形成冲击波的清洁方式不但
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117206275A
(43)申请公布日2023.12.12
(21)申请号202311303591.5
(22)申请日2023.10.09
(71)申请人上海传芯半导体有限公司
地址2
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