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本发明公开了一种抛光设备的控制方法,抛光设备的控制方法包括:接收称重装置的重量信号;根据重量信号计算得到完成抛光后料片的实际厚度;根据抛光后的料片实际厚度计算得到料片的实际抛光去除厚度;根据抛光后的料片的目标厚度计算得到料片的目标抛光去除厚度;比较料片的实际抛光去除厚度和料片的目标抛光去除厚度的大小;根据料片的实际抛光去除厚度和料片的目标抛光去除厚度的大小,调整抛头对下一批料片进行抛光的时间,从而调整下一批料片完成抛光后的实际厚度。由此,通过在抛光设备中集成称重装置,可以用于实时获得料片实际厚度
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117245482A
(43)申请公布日2023.12.19
(21)申请号202311542174.6
(22)申请日2023.11.20
(71)申请人铭扬半导体科技(
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