一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置及其制备工艺.pdfVIP

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2023-12-20 发布于四川
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一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置及其制备工艺，涉及CMP抛光液过滤技术领域，包括过滤缸体、加压装置、进料装置、过滤组件、出料装置和收集装置，过滤缸体上设有加压装置、收集装置和进料装置，过滤缸体内设有过滤组件，过滤组件上设有出料装置，过滤组件由第二固定板、第一固定块、固定支架和过滤网构成，第二固定板上设有第一固定块和固定支架，固定支架上设有过滤网，固定支架与出料装置和加压装置相连通；本发明结构合理实用，操作简单，不仅便于对过滤缸体内进行加压，提高了CMP抛光液的过滤效率，而且便于对堵塞的滤网进行

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117244298A

(43)申请公布日2023.12.19

(21)申请号202311452988.0B01D29/92(2006.01)

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