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本申请公开了一种悬梁结构的形成方法，包括：提供一衬底，衬底上形成有硬掩模层，衬底和硬掩模层中形成有沟槽，沟槽的深度和宽度的比值大于6，沟槽具有上部和下部，上部的宽度小于下部的宽度；在沟槽上部的周侧形成线性氧化层；在沟槽下部的周侧形成外延层；去除线形氧化层；在沟槽中填充外延层，外延层封闭沟槽上部和硬掩模层之间的区域，沟槽下部的外延层中具有空洞。本申请通过先在沟槽上部的周侧形成线性氧化层，再在沟槽下部形成外延层，去除线性氧化层后再在沟槽中进行外延层填充，由于沟槽下部先形成有外延层，因此减小了沟槽上部
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117276297A
(43)申请公布日2023.12.22
(21)申请号202311339158.7
(22)申请日2023.10.17
(71)申请人华虹半导体（无锡）有限公司
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