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- 2023-12-23 发布于四川
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一种流体处理装置及其制备方法。所述流体处理装置包括：具有第一流体通道的基体，所述第一流体通道的流体入口分布于所述基体的第一表面的第一区域内；流体阻挡部，具有与该第一表面相对设置的第二表面；多个纳米线状体，所述纳米线状体一端固设于该第一表面的第二区域内，另一端与该第二表面固定连接，相邻纳米线状体之间间隔一定距离，所述第一表面的第二区域与第一区域邻接，从而使所述多个纳米线状体、流体阻挡部与基体之间配合形成第二流体通道，且待处理的流体仅能通过所述第二流体通道进入第一流体通道。本申请的流体处理装置具有通
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN107473434A
(43)申请公布日
2017.12.15
(21)申请号20161
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