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- 2023-12-23 发布于四川
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本发明涉及光刻掩模图形筛选检测技术领域,其特别涉及一种优化图形筛选和DRC优化的方法、装置和介质。本发明提供的优化图形筛选的方法,包括以下步骤:获取完整掩模版图并将其划分为多个图形框,并标记所有图形框的边界信息;记录图形框内的图形信息,形成第一图形信息数据;根据所标记的边界信息与第一图形信息数据,记录被分割的图形信息,形成第二图形信息数据;接收特定图形选取指令,根据所述第二图形信息数据筛选出被分割的特定图形并形成第三图形信息数据。使用该方法,可完整、准确的筛选出被图形框边界分割的特定图形,解决了
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117270310A
(43)申请公布日2023.12.22
(21)申请号202311206428.7
(22)申请日2023.09.18
(71)申请人东方晶源微电子科技(上海)有限公
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